а√在线地址最新版_粉色视频app下载安装无限看丝瓜苏州晶体ios_久久成人免费_性感美女被爆操

+
  • LPCVD.jpg

LPCVD 臥式


所屬分類:

第一代半導體工藝設備


概要:

? LPCVD設備是半導體集成電路制造的重要設備之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長,它是將原材料氣體(或者液態源氣化)用熱能激活發生化學反應而在基片表面生成固體薄膜,LPCVD過程是在低壓下進行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長的薄膜均勻性好,此外基片可以豎放使得設備裝片量大,特別適用于工業化生產


關鍵詞:

LPCVD (立式/臥式)



LPCVD 臥式


上一個

LPCVD 立式爐管設備

在線咨詢

提交留言